对中芯片战争：美国、荷兰联手打出“组合拳”

报道提到，荷兰政府先前已限制ASML公司向中国出口最先进的极紫外光微影製程（DUV）光刻机，今日（30日）将宣布出售次级的相关设备也需先申请出口许可；先前ASML公司在3月时曾透露，法规限制的DUV设备包括 TWINSCAN NXT:2000i 以及更先进複杂的型号，但较旧的如 TWINSCAN NXT:1980Di 原先未被列管的型号，接下来也将被限制在内。

消息人士透露，荷兰方面的新规定不会立即生效，生效日期可能会订在2个月后、也就是9月份。而美国计划的新规定可能会在7月下旬公布，将会要求向中国6家半导体晶圆厂输出制造设备需先申请许可，其中包括中芯国际营运的一家晶圆厂，由于荷兰ASML公司的制造设备包括美国关键零组件，因此普遍认为美国新规定也将适用于该公司的制造设备

另一家可能受到影响、专精于原子层沉积（ALD）技术的荷兰ASM公司，则拒绝在该国法规正式公布前发表评论。